Перейти до змісту
  • Новини
  • [IXBT] Semicon Japan: Nikon расширяет возможности NSR-S610C до норм 39 нм


    Frike

    Рекомендовані повідомлення

    Корпорация Nikon в ходе выставки Semicon Japan сообщила о возможности создания на поверхности полупроводниковых подложек рисунков размером 39 нм, используя иммерсионную литографическую систему с 193-нм источником света (ArF-лазер), NSR-S610C.

     

    Источник: http://www.ixbt.com/news/hard/index.shtml?07/40/02

     Для нас нет непреодолимых трудностей, есть только трудности, которые нам лень преодолевать.

    Посилання на коментар
    Поділитись на інші сайти

    ×
    ×
    • Створити...

    Важлива інформація

    Використовуючи цей сайт, Ви погоджуєтеся з нашими Умови використання, Політика конфіденційності, Правила, Ми розмістили cookie-файлы на ваш пристрій, щоб допомогти зробити цей сайт кращим. Ви можете змінити налаштування cookie-файлів, або продовжити без зміни налаштувань..